用于管理光学元件中的热的设备及相关的热管理方法,法国巴黎综合理工学院 作者:丹尼·阿尔巴赫,简-克利斯朵夫·尚特卢,安东尼奥·卢恰内蒂,蒂埃里·诺沃,伯纳德·文森特 ,热管理网专利下载
热管理专利详情：
- 作者：丹尼·阿尔巴赫,简-克利斯朵夫·尚特卢,安东尼奥·卢恰内蒂,蒂埃里·诺沃,伯纳德·文森特
- 申请人：巴黎综合理工学院
- 国省名称：法国
- 公开号：CN103636082A
- 公开日：2014-03-12
- 专利类别：发明公开
- 文件大小：1777.1KB
专利摘要：
本发明涉及一种用于管理光学元件(2)中的热的设备(1),包括：光学元件(2)；参考温度下的材料(5)；和直接位于参考温度下的材料(5)和光学元件(2)之间的中间气体层(4),所述中间气体层(4)在其至少一部分厚度上处于由中间气体层(4)的厚度限定的所谓的瞬时扩散状态,使得中间气体层(4)中的气体分子的平均自由程与所述厚度的比值在0.1和10之间。本发明的特征在于中间气体层的厚度在10μm和5mm之间。本发明还涉及一种在所述设备(1)中实施用于管理光学元件(2)的温度的热管理方法。
专利主权项：
一种用于光学元件(2)的热管理的设备(1),包括：?光学元件(2)；?参考温度下的材料(5)；和?直接位于所述参考温度下的材料(5)和所述光学元件(2)之间的中间气体层(4),其特征在于,所述中间气体层(4)在其至少一部分厚度上处于由所述中间气体层(4)的厚度限定的被称为“瞬态”的扩散状态,使得所述中间气体层(4)中的气体分子的平均自由程与所述厚度的比值在0.1和10之间,并且所述中间气体层的厚度在10μm和5mm之间。
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