一种基于偏振双通侧泵的直接液冷分布式增益激光器,四川省中国工程物理研究院应用电子学研究所 作者:易家玉,涂波,尚建力,曹海霞,安向超,阮旭,唐淳 ,热管理网专利下载
热管理专利详情：
- 作者：易家玉,涂波,尚建力,曹海霞,安向超,阮旭,唐淳
- 申请人：中国工程物理研究院应用电子学研究所
- 国省名称：四川省
- 公开号：CN108923231B
- 公开日：2020-02-18
- 专利类别：发明授权
- 文件大小：385.6KB
专利摘要：
本发明公开了一种基于偏振多通侧面泵浦的直接液冷阵列分布式增益激光器,涉及高能激光技术领域。所述增益单元(I1、I2)包括直接液冷的阵列式分布增益模块(7、17),增益模块一侧设置有第一泵浦模块和1/2波片,另一侧设置有第二泵浦模块。所述第一泵浦模块依次包括第一激光二极管阵列泵浦源、第一快轴整形镜、第一慢轴整形镜、第一反射镜、第一偏振分光镜；所述第二泵浦模块依次包括第二激光二极管阵列泵浦源、第二快轴整形镜、第二慢轴整形镜、第二反射镜、第二偏振分光镜。与现有技术相比本发明具有输出功率高、热管理方式优秀以及输出激光光束质量好等优势,在高功率激光器领域中具有重要的应用前景。
专利主权项：
1.一种用于直接液冷阵列分布式增益激光器的增益单元,其特征在于,所述增益单元(I1、I2)包括直接液冷的阵列式分布增益模块(7、17),增益模块一侧设置有第一泵浦模块和1/2波片(6),另一侧设置有第二泵浦模块；在光路方向上,所述第一泵浦模块依次包括第一激光二极管阵列泵浦源(11)、第一快轴整形镜(21)、第一慢轴整形镜(31)、第一反射镜(41)、第一偏振分光镜(51)；所述第二泵浦模块依次包括第二激光二极管阵列泵浦源(12)、第二快轴整形镜(22)、第二慢轴整形镜(32)、第二反射镜(42)、第二偏振分光镜(52)；所述直接液冷的阵列式分布增益模块(7)包括增益模块的激光窗口(8)、增益模块的增益介质(9)、增益模块的激光冷却液(10)和增益模块的泵浦窗口(19)。
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