- 作者:向井贤一郎,金权一,L·加赫蒂,L·勃兰特,T·马格亚
- 申请人:德国艾托特克公司
- 国省名称:德国
- 公开号:CN107112311B
- 公开日:2020-10-02
- 专利类别:发明授权
- 文件大小:659.9KB
专利主权项:
1.一种形成用于主动组件的电磁屏蔽与热管理的金属层的方法,所述方法包含以下步骤(i)提供至少一个主动组件,所述主动组件具有前侧、后侧和侧壁,所述前侧包含通过模制化合物的层封入的至少一个芯片;(ii)在所述后侧上形成保护层,所述保护层选自通过粘合胶带、UV可剥胶带和临时油墨层的层压所形成的层;(iii)在所述前侧上形成增粘层,或者在所述前侧和所述侧壁上形成增粘层;(iv)在所述增粘层上形成至少一个金属层;(v)将至少一个金属层加热到100℃与300℃之间的温度,其中所述保护层在步骤(iv)或(v)之后去除,其中根据步骤(iii)形成涂覆的增粘层包含iiia.在所述模制化合物的层上沉积硅烷类增粘剂的层,所述硅烷类增粘剂的层具有在5到100nm之间的厚度。
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