来源:PCEVA
无论是风冷还是水冷散热,芯片内产生的热量都需要经过芯片-IHS顶盖-散热器底座这一环节,效率大打折扣。
芯片内水冷是未来芯片散热方案的一个理想途径,不过让冷却液通道直接穿过芯片并不简单,实现过程中存在很多障碍。传统的方法是在芯片中添加具有微通道的层,通过水泵使冷却剂流过这些通道并吸收热量,这种方式比传统水冷更接近热源。
瑞士洛桑联邦理工学院的研究人员最近提出了一种新的技术,利用氮化镓(GaN)切入下方的硅中,在蚀刻过程中通道被加宽,GaN层中的原始间隙被铜填充。在这些通道下设计有冷却剂管线,铜有助于将热量传导至冷却剂。
研究人员在尝试多种设计方案后实现了1700瓦/平方厘米的散热能力,并将处理器的温度保持在60摄氏度以内。
目前研究人员只是利用简单芯片进行测试,散热效果很好。但要将这项技术实际运用在CPU或GPU当中还需要将冷却和芯片设计结合在一起,使之重点照顾热量集中的区域,同时不会产生相互干扰。